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Technologie de dépôt de film
- Apr 09, 2018 -

La technique de dépôt d'une fine couche de métal sur un substrat ou une couche mince précédemment obtenue est appelée dépôt de surface. La "finesse" est ici un concept relatif, mais la plupart des techniques de dépôt peuvent contrôler l'épaisseur de la couche mince dans la gamme de plusieurs dizaines de nanomètres. La technologie d'épitaxie par jet moléculaire peut obtenir une structure de couche atomique unique.

Les techniques de dépôt ont des applications dans les instruments optiques (films anti-reflets, films anti-reflets, surfaces autonettoyantes, etc.), les technologies électroniques (résistances à couches minces, semi-conducteurs, circuits intégrés), l'emballage et l'art moderne. Lorsque les exigences d'épaisseur de film ne sont pas élevées, des techniques de dépôt similaires sont souvent utilisées. Par exemple, le processus de purification du cuivre par électrolyse, dépôt de silicium et purification de l'uranium utilise tous des procédés similaires au dépôt météorologique chimique.

Les techniques de dépôt peuvent être divisées en deux grandes catégories basées sur les principes fondamentaux de leur utilisation: dépôt physique et dépôt chimique.